浸润式DUV光刻机之父:中国现有光刻机可制5nm工艺
讲清楚点儿,光刻这条路其实分两拨:一拨想把光的波长弄得更短,像当年有人看好157nm;另一拨不是换光源,而是改变光在介质里的传播状态,让它“看起来”更短,浸润式DUV就是后者。后来又冒出个极紫外EUV,用13.5nm的光源一次成像,理论上省事多了,但设备贵得吓
讲清楚点儿,光刻这条路其实分两拨:一拨想把光的波长弄得更短,像当年有人看好157nm;另一拨不是换光源,而是改变光在介质里的传播状态,让它“看起来”更短,浸润式DUV就是后者。后来又冒出个极紫外EUV,用13.5nm的光源一次成像,理论上省事多了,但设备贵得吓
42%的中国订单明年说没就没,ASML的CEO把财报翻得哗哗响,也找不到能替中国补窟窿的第二个市场,于是荷兰政府一纸令下:DUV也不给卖。
中国半导体制造领域正在迎来重大突破。根据最新报告,中国最大的芯片制造厂商中芯国际正在试验其自建的深紫外(DUV)光刻机。这项技术的成功应用将对中国在先进半导体制造方面的自主能力提升产生深远影响,尤其是在满足国内人工智能(AI)需求增加的背景下。